전자 현미경의 구조?

전자현미경의 구조:

전자현미경은 거울, 진공장치, 전원 캐비닛의 세 부분으로 구성되어 있다.

거울통에는 주로 전자원, 전자렌즈, 샘플틀, 스크린, 탐지기 등이 있는데, 이 부품들은 보통 하향식으로 실린더로 조립된다.

전자렌즈는 전자에 초점을 맞추는 데 사용되며 전자현미경 렌즈 중 가장 중요한 부품이다. 일반적으로 자기렌즈를 사용하며, 때로는 정전기 렌즈를 사용하는 경우도 있다. 광학 현미경의 광학 렌즈 (볼록 렌즈) 와 같은 역할을 하는 광학 현미경의 광학 렌즈 (볼록 렌즈) 와 같은 역할을 하는 렌즈 축에 대칭인 공간 전기장 또는 자기장을 사용하여 전자 궤적을 축으로 구부려 초점을 맞춥니다. 따라서 전자 렌즈라고 합니다. 광학 렌즈의 초점은 고정되어 있고 전자 렌즈의 초점은 조정될 수 있으므로 전자 현미경은 광학 현미경처럼 움직일 수 있는 렌즈 시스템이 없습니다. 현대전자현미경은 대부분 전자기렌즈를 사용하는데, 매우 안정적인 직류 자기전류가 극화 코일을 통해 발생하는 강한 자기장을 통해 전자에 초점을 맞춘다. 전자원은 자유 전자를 방출하는 음극, 게이트, 링 가속 전자의 양극으로 이루어져 있다. 음극과 양극 사이의 전압 차이는 매우 높아야 하며, 일반적으로 수천 볼트에서 300 만 볼트 사이이다. 그것은 발사되어 속도가 균일한 전자빔을 형성하기 때문에 가속 전압의 안정성 요구 사항은 만분의 1 이상이어야 한다.

전자현미경은 구조와 용도에 따라 투과형 전자현미경, 스캔식 전자현미경, 반사식 전자현미경, 발사식 전자현미경 등으로 나눌 수 있다.

투과형 전자현미경 구조도:

스캔형 전자현미경 구조도:

투과형 전자현미경은 보통 현미경으로 구분할 수 없는 미세한 물질 구조를 관찰하는 데 자주 사용됩니다. 스캔형 전자현미경은 주로 고체 표면의 형태를 관찰하는 데 사용되며, X-선 회절 또는 전자 스펙트럼과 결합하여 물질 성분 분석을 위한 전자 마이크로탐침을 형성합니다. 발사식 전자현미경은 자체 발사 전자표면의 연구에 쓰인다.